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1200℃真空管式气氛炉采用先进技术研制开发的高性能高节能的新型电炉,有单管、双管、卧式、可开启式、立式、单温区、双温区、三温区等多种管式炉型。主要应用于大专院校、科研院所、工矿企业等实验和小批量生产之用。具有安全可靠、操作简单、控温精度高、保温效果好、温度范围大、炉膛温度均匀性高、温区多、可选配气氛、抽真空炉型等。
化学气相沉积炉(CVD系统)是借助于辉光放电等离子体使含有薄膜组成的气态物质发生化学反应,从而实现薄膜材料生长的一种新的制备技术。由于PECVD技术是通过应气体放电来制备薄膜的,有效地利用了非平衡等离子体的反应特征,从根本上改变了反应体系的能量供给方式。
1200℃立式管式炉具有*设计能够实现在真空或气氛保护条件下对样品快速升降温,四面加热,温场更均匀,立式结构使得气体排放更加顺畅,炉体垂直安装在可移动支架上有利于炉管取放温度的均匀性,可以预抽真空并能通氢气、氩气、氮气、氧气、一氧化碳、氨分解气等气体。
1200℃旋转管式炉专为烧结无机化合物获得较好的一致性而设计,适合航空航天、新能源,LED发光材料等行业,炉体可倾斜30°,炉管可360°旋转。炉子在旋转同时下可通入氮气、氩气、氢气等保护性气体,也可外接真空泵在真空状态下加热使用。
1400℃旋转管式炉是一款通过CE认证的管式炉,炉体在高温状态下进行均匀烧结设计;每个温区分别由三个独立温控系统单独控制,通过调节各个温区的温度,可以在加热区内形成温度梯度或是形成较长的恒温区域。