氮化硅压力烧结炉

　　氮化硅压力烧结炉采用微电脑控制技术、PLC控制技术以及先进的电控元器件，实现自动化，用户装完炉后，只需选择自动即可完成整炉材料的烧制。本设备由电炉体、加热系统、升降系统、冷却系统、充放气系统、电控系统等组成。设备根据炉内温度、充放气体的种类、速度、比例以及炉内游离硅的量进行反映，从而生成氮化硅。

　　该设备广泛应用于金属材料在低真空、还原性、保护性气氛下的热处理，也可以用于特殊材料的热处理，如碳制品的碳化工艺研制之用，如电池材料、稀土材料、磁性材料、陶瓷材料等的干燥盒煅烧。耐火材料采用氧化铝纤维，保温节能效果良好；外封闭式真空灌并带水冷系统；整机结构新颖，操作方便。

　　氮化硅压力烧结炉的技术参数：

　　1、型号：PVSgr-20/25-2000 (G2)

　　2、设计温度（℃）：2000

　　3、温度均匀（℃）：±5

　　4、真空度范围：10Pa

　　5、充气体种类：氮气/氩气

　　6、气体压力（MPa）(选配）：6or10

　　7、冷却系统（选配）：HCA-10

　　8、炉膛尺寸(宽X高X长)（mm）：Φ200×250

　　9、装卸料方式：立式上取料

　　10、加热方式：石墨加热