真空管式气氛炉此设备带有两通道气体控制器，气液混合罐，露点仪和氢气探测器，此设备专门设置对材料进行湿氢处理，以达到材料表面部分氧化，同时也进行各种CVD实验。若有实验中发生氢气微露现象（氢气爆炸点的10%），氢气探测器将发生报警信号，使整个实验在绝对安全的环境下进行。

管式气氛炉又简称管式炉，主要用于金属，陶瓷，粉末冶金等相关材料的烧结，退火炉，回火等的热处理。

此设备带有两通道气体控制器，气液混合罐，露点仪和氢气探测器，此设备专门设置对材料进行湿氢处理，以达到真空管式气氛炉厂家材料表面部分氧化，同时也进行各种CVD实验。若有实验中发生氢气微露现象（氢气爆炸点的10%），氢气探测器 将发生报警信号，使整个实验在绝对安全的环境下进行。

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这款CVD系统集真空管式炉，多通道气路系统和真空系统组成，可根据用户需要设计生产（有双温区、三温区、多温区），可预抽真空（有高真空、低真空），通多种气氛（供气系统有质子流量器和浮子流量控制器）。性能可靠。控制电路选用模糊PID程控技术，具有控温精度高，温冲幅度小，性能可靠，简单易操作等特点。CVD生长系统适用于CVD工艺，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容等。

这款管式炉以硅钼棒为加热元件，采用双层壳体结构和50段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用1800型氧化铝多晶体纤维材料，双层炉壳间配有风冷系统，能快速升降温，采用99刚玉管、两端用不锈钢法兰密封，用浮子流量计控制进气流量、该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点，是高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、真空退火用的理想产品。