立式管式炉的使用必须严格按照操作手册进行

　　立式管式炉的*设计能够实现在真空或气氛保护条件下对样品快速升降温，四面加热，温场更均匀，立式结构使得气体排放更加顺畅，炉体垂直安装在可移动支架上有利于炉管取放温度的均匀性，可以预抽真空并能通氢气、氩气、氮气、氧气、一氧化碳、氨分解气等气体，该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点，特别适合薄膜生长、电极测试、氧化物晶体生长、快速退火等实验需要！
 

　　设备采用钢板精工制作而成，表面采用静电喷涂，外形美观。工作室为刚玉管，加热元件根据温度需要配套(硅碳棒或硅钼棒)，保温材料采用轻质保温保温加的硅酸铝耐火纤维棉，与电炉配套的温控部分采用PID可调智能仪表控制，可编制多个程序段，控制产品的烧制过程，并具有过流、限流、过热等保护功能。
 

　　主要应用于院校实验室、工矿企业实验室，应用于高、中、低温CVD工艺，如碳纳米管的研制，晶体硅基板镀膜，金属材料扩散焊接以及真空或气氛下的热处理等。
 

　　该设备使用必须按照操作规范进行的同时，还应注意以下几点：

　　1、检查气路是否畅通或漏气。先将管路连接无误后通氧气，氧气进入吸收瓶后产生正常气泡，表明气路正常，否则说明气路有堵塞或瓷管有断裂，应处理正常。

　　2、开启电源，开启控制器，先预置立式高温管式炉的工作温度为1250℃，然后调整电压为60Ⅴ，升温半小时，然后调整电压至100Ⅴ，再升温半小时，zui后调整电压至150Ⅴ，升温至温度指示在1250℃。如不按照逐渐提高电压并保证足够时长的方式升温，硅碳棒和瓷管受到急热作用而容易断裂，因而须严格按本规程操作，以免造成大量材料浪费。

　　3、在工作温度保持在1250℃左右时即可进入样品分析；分析结束后调整电压归为零位，关闭控制器开关，关闭电源，zui后关闭氧气仪表阀门和气瓶总阀。