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研究用真空烧结炉用石墨，钼屏或钨屏作发热体的高温真空电阻炉，额定温度为1000~2400℃。可供金属、难熔化合物及陶瓷材料等在真空或保护气氛中加热之用。
研究用真空烧结炉用石墨，钼屏或钨屏作发热体的高温真空电阻炉，额定温度为1000~2400℃。可供金属、难熔化合物及陶瓷材料等在真空或保护气氛中加热之用。
真空钨丝烧结炉用钨屏作发热体的高温真空电阻炉，额定温度为1000~2300℃。可供金属、难熔化合物及陶瓷材料等在真空或保护气氛中加热之用。
研究用真空烧结炉用石墨，钼屏或钨屏作发热体的高温真空电阻炉，额定温度为1000~2400℃。可供金属、难熔化合物及陶瓷材料等在真空或保护气氛中加热之用。
真空烧结炉是用石墨作发热元件的真空电阻炉，供金属化合物、陶瓷、无机化合物等在真空或保护气氛中烧结制品，也可用于金属材料的热处理。主要应用于电容、钽材等金属及由难熔金属组成的合金材料、陶瓷材料碳化硅及氮化硅的高温烧结、也可以供金属材料、晶体材料在高真空条件下的高温热处理或贵金属材料的除气处理。
真空烧结炉是用石墨作发热元件的真空电阻炉，供金属化合物、陶瓷、无机化合物等在真空或保护气氛中烧结制品，也可用于金属材料的热处理。主要应用于电容、钽材等金属及由难熔金属组成的合金材料、陶瓷材料碳化硅及氮化硅的高温烧结、也可以供金属材料、晶体材料在高真空条件下的高温热处理或贵金属材料的除气处理。
用于特种陶瓷（碳化硅、碳化硼、氮化硅等），高熔点金属、硬质合金以及其它粉体材料的高温烧结，也可用于对一些高熔点金属进行退火及光亮、除气处理等。
用于特种陶瓷(碳化硅、碳化硼、氮化硅等)，高熔点金属、硬质合金以及其它粉体材料的高温烧结，也可用于对一些高熔点金属进行退火及光亮、除气处理等。
