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研究用真空烧结炉用石墨，钼屏或钨屏作发热体的高温真空电阻炉，额定温度为1000~2400℃。可供金属、难熔化合物及陶瓷材料等在真空或保护气氛中加热之用。
研究用真空烧结炉用石墨，钼屏或钨屏作发热体的高温真空电阻炉，额定温度为1000~2400℃。可供金属、难熔化合物及陶瓷材料等在真空或保护气氛中加热之用。
真空钨丝烧结炉用钨屏作发热体的高温真空电阻炉，额定温度为1000~2300℃。可供金属、难熔化合物及陶瓷材料等在真空或保护气氛中加热之用。
研究用真空烧结炉用石墨，钼屏或钨屏作发热体的高温真空电阻炉，额定温度为1000~2400℃。可供金属、难熔化合物及陶瓷材料等在真空或保护气氛中加热之用。
真空钨丝烧结炉用钨屏作发热体的高温真空电阻炉，额定温度为1000~2300℃。可供金属、难熔化合物及陶瓷材料等在真空或保护气氛中加热之用。
1600℃立式真空烧结炉广泛应用于硬质合金、陶瓷、难熔金属及合金（钨、钼、钨铜合金）的真空烧结。具有大抽气量、高真空度、温度均匀可控和无泄漏等特点。其他技术参数可按用户要求设计制造。
用于特种陶瓷（碳化硅、碳化硼、氮化硅等），高熔点金属、硬质合金以及其它粉体材料的高温烧结，也可用于对一些高熔点金属进行退火及光亮、除气处理等。
用于特种陶瓷(碳化硅、碳化硼、氮化硅等)，高熔点金属、硬质合金以及其它粉体材料的高温烧结，也可用于对一些高熔点金属进行退火及光亮、除气处理等。
