产品列表PRODUCTS LIST

  • 2000℃研究用真空烧结炉

    2000℃研究用真空烧结炉

    研究用真空烧结炉用石墨,钼屏或钨屏作发热体的高温真空电阻炉,额定温度为1000~2400℃。可供金属、难熔化合物及陶瓷材料等在真空或保护气氛中加热之用。

  • 2300℃真空烧结炉

    2300℃真空烧结炉

    研究用真空烧结炉用石墨,钼屏或钨屏作发热体的高温真空电阻炉,额定温度为1000~2400℃。可供金属、难熔化合物及陶瓷材料等在真空或保护气氛中加热之用。

  • 2300℃真空钨丝炉

    2300℃真空钨丝炉

    真空钨丝烧结炉用钨屏作发热体的高温真空电阻炉,额定温度为1000~2300℃。可供金属、难熔化合物及陶瓷材料等在真空或保护气氛中加热之用。

  • 2300℃研究用真空碳管炉

    2300℃研究用真空碳管炉

    研究用真空烧结炉用石墨,钼屏或钨屏作发热体的高温真空电阻炉,额定温度为1000~2400℃。可供金属、难熔化合物及陶瓷材料等在真空或保护气氛中加热之用。

  • 2300℃研究用真空烧结炉

    2300℃研究用真空烧结炉

    真空烧结炉是用石墨作发热元件的真空电阻炉,供金属化合物、陶瓷、无机化合物等在真空或保护气氛中烧结制品,也可用于金属材料的热处理。主要应用于电容、钽材等金属及由难熔金属组成的合金材料、陶瓷材料碳化硅及氮化硅的高温烧结、也可以供金属材料、晶体材料在高真空条件下的高温热处理或贵金属材料的除气处理。

  • 1600℃真空烧结炉

    1600℃真空烧结炉

    真空烧结炉是用石墨作发热元件的真空电阻炉,供金属化合物、陶瓷、无机化合物等在真空或保护气氛中烧结制品,也可用于金属材料的热处理。主要应用于电容、钽材等金属及由难熔金属组成的合金材料、陶瓷材料碳化硅及氮化硅的高温烧结、也可以供金属材料、晶体材料在高真空条件下的高温热处理或贵金属材料的除气处理。

  • 2300℃感应烧结炉

    2300℃感应烧结炉

    用于特种陶瓷(碳化硅、碳化硼、氮化硅等),高熔点金属、硬质合金以及其它粉体材料的高温烧结,也可用于对一些高熔点金属进行退火及光亮、除气处理等。

  • 2200℃卧式感应烧结炉

    2200℃卧式感应烧结炉

    用于特种陶瓷(碳化硅、碳化硼、氮化硅等),高熔点金属、硬质合金以及其它粉体材料的高温烧结,也可用于对一些高熔点金属进行退火及光亮、除气处理等。

共 9 条记录,当前 1 / 2 页  首页  上一页  下一页  末页  跳转到第页 
联系人
在线客服
用心服务 成就你我