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2000℃真空烧结炉

简要描述:

真空烧结炉是用石墨作发热元件的真空电阻炉,供金属化合物、陶瓷、无机化合物等在真空或保护气氛中烧结制品,也可用于金属材料的热处理。主要应用于电容、钽材等金属及由难熔金属组成的合金材料、陶瓷材料碳化硅及氮化硅的高温烧结、也可以供金属材料、晶体材料在高真空条件下的高温热处理或贵金属材料的除气处理。

更新时间:2020-09-01

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2000℃真空烧结炉

一、设备主要用途及特点

  真空烧结炉是用石墨作发热元件的真空电阻炉,供金属化合物、陶瓷、无机化合物等在真空或保护气氛中烧结制品,也可用于金属材料的热处理。主要应用于电容、钽材等金属及由难熔金属组成的合金材料、陶瓷材料碳化硅及氮化硅的高温烧结、也可以供金属材料、晶体材料在高真空条件下的高温热处理或贵金属材料的除气处理。

  设备结构合理,设计及制造符合相应的国家及行业标准和规范,使用、操作、维修方便简捷,配套产品和元器件具有先进水平,可稳定、安全、可靠地满足生产需求。

二、技术参数

型号

VHSgr-40/40/80-2000 

设备形式 

卧式侧装料 

加热功率 

45KW±10%(具体以实际为准) 

工作尺寸 

400×400×800(mm)(宽*高*长) 

设计温度 

2000℃ 

常用温度 

1850℃ 

极限真空度 

8.0×10-1Pa (空炉、冷态、经净化) 

压升率 

3.0Pa/h 

控温仪表 

日本岛电程序控温仪 

装料方式 

侧装料 

 

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