一、设备主要用途及特点:
2000℃真空烧结炉是用石墨作发热元件的真空电阻炉,供金属化合物、陶瓷、无机化合物等在真空或保护气氛中烧结制品,也可用于金属材料的热处理。主要应用于电容、钽材等金属及由难熔金属组成的合金材料、陶瓷材料碳化硅及氮化硅的高温烧结、也可以供金属材料、晶体材料在高真空条件下的高温热处理或贵金属材料的除气处理。
设备结构合理,设计及制造符合相应的国家及行业标准和规范,使用、操作、维修方便简捷,配套产品和元器件具有先进水平,可稳定、安全、可靠地满足生产需求。

二、适用范围:
设备主要供大专院校、科研单位针对无机材料在真空(或保护气氛)热压条件下进行烧结处理,以便获得高致密度的产品(如生产高精度氮化硅陶瓷轴承等)。
三、结构特点说明:
2000℃真空烧结炉主要是由炉体;炉盖;炉底;真空系统等部件组合而成的。
炉体:为立式炉壳其内层为不锈钢制成的园筒外层为碳钢。两层之间形成夹套可以通冷却水将传到炉壳上的热量带走,使炉壁温度不超过60℃,其上下法兰焊接为一个整体。中间开有红外测温孔,热电偶测温孔、抽气孔及观察孔,热电偶有到温自动退出装置,红外测温观察孔有玻璃气吹防雾装置,操作人员使用的观察孔设有挡板。
炉盖:有内外封头和法兰组成,中间水冷炉盖吊在启闭机构上,板动启动机构上的手柄可以将炉盖升启10-15mm,炉盖上有压头,压力传感器、排气隔膜阀及炉盖锁紧装置。
炉底:也是由内外封头和法兰组成,中间水冷,固定在炉体底部,有电极引入,下压头进气隔膜阀等组成,并装可调节高度位移传感器。
真空系统:电炉真空系统采用机械泵及油扩散泵,同时设有冷阱及机组。真空测量为复合真空计。真空系统还配有放气阀、充气阀,真空连接软管采用不锈钢金属软管。
四、技术参数:
1、型号:VHSgr-40/40/80-2000
2、设备形式:卧式侧装料
3、加热功率:45KW±10%(具体以实际为准)
4、工作尺寸:400×400×800(mm)(宽*高*长)
5、设计温度:2000℃
6、常用温度:1850℃
7、极限真空度:8.0×10-1Pa (空炉、冷态、经净化)
8、压升率:≤3.0Pa/h
9、控温仪表:日本岛电程序控温仪
10、装料方式:侧装料
