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  • 202312-26
    如何选购与维护立式真空退火炉?

    立式真空退火炉是一种广泛应用于金属热处理领域的设备,具有高效、环保等优点。为了确保其性能和寿命,选购和维护该设备是非常重要的。本文将详细介绍如何选购与维护立式真空退火炉。一、设备选购:1.明确需求:在选购之前,首先要明确自己的需求,包括处理金属的种类、数量、温度和时间等。这有助于选择适合自己需求的设备型号和配置。2.了解品牌和厂家:在购买前要了解市场上有哪些品牌的立式真空退火炉,以及这些品牌的信誉和口碑。同时,要了解厂家的生产能力和售后服务,以确保购买到质量可靠、服务完善的设...

  • 202312-20
    实验室数字化转型的重要工具:真空脱脂烧结一体炉的智能化应用

    随着科技的不断进步和实验室工作的发展,实验室数字化转型已成为一个不可逆转的趋势。在这个数字化转型的过程中,各种智能化仪器设备起到了至关重要的作用。其中,真空脱脂烧结一体炉作为实验室中重要的烧结设备,也在智能化应用方面发挥着重要的作用。真空脱脂烧结一体炉是一种集合了真空处理和热处理功能的炉子。它主要用于金属和陶瓷材料的烧结,通过在真空环境中进行加热处理,可以消除材料中的气孔、夹杂物和其他缺陷,提高材料的密度和力学性能。在实验室数字化转型的过程中,该炉的智能化应用成为了科学家们关...

  • 202311-27
    从理论到实践,探究真空感应热压炉的制造原理

    真空感应热压炉是一种广泛应用于金属材料加工领域的设备,其制造原理涉及到物理学、电磁学和热学等多个学科。本文将从理论到实践,探究该炉的制造原理。真空感应热压炉的制造原理主要基于电磁感应和热传导的原理。首先,我们来了解一下电磁感应。根据法拉第电磁感应定律,当导体在变化的磁场中运动时,会在导体中产生感应电流。而该炉利用交变磁场产生感应电流,通过感应电流在金属内部产生涡流,从而实现对金属材料的加热。目前,该炉子通常由感应线圈、工作室和真空系统等组成。感应线圈通常由铜制成,通过通电产生...

  • 202311-22
    高温合成中的可控气氛炉技术及其在新材料研发中的应用

    随着新材料领域的不断发展,高温合成技术成为了制备各类先进材料的重要手段之一。而可控气氛炉作为高温合成过程中关键的环境控制手段,对于确保材料的纯度、结晶度和性能具有至关重要的作用。本文将介绍可控气氛炉的原理及其在新材料研发中的应用,以探讨其对新材料领域的重要意义。可控气氛炉基于对高温反应环境的精确控制,可以为高温合成过程提供稳定的气氛环境,从而影响材料的晶体生长、相变、缺陷形成等关键过程。在高温合成过程中,炉膛内的气氛可以是惰性气体、还原气氛或氧化气氛,其组成和压力的调节能够直...

  • 202310-26
    氮化硅压力烧结炉:高温陶瓷材料加工的关键工艺设备

    氮化硅是一种重要的高温陶瓷材料,具有优异的高温稳定性、耐腐蚀性和机械性能。为了进一步提高氮化硅材料的性能,并满足不同领域对高温材料的需求,科学家们开发了一种先进的设备——氮化硅压力烧结炉。氮化硅压力烧结炉是一种利用高温和高压条件下进行烧结工艺的设备。其主要原理是将氮化硅粉末填充至模具中,并施加高温和高压条件,使粉末颗粒之间发生扩散和结合,形成致密的氮化硅坯料。经过后续的加工和处理过程,最终制得具有优异性能的氮化硅制品。氮化硅压力烧结炉在高温陶瓷材料加工领域具有关键的应用价值。...

  • 202310-18
    等离子增强化学气相沉积炉:革新材料制备技术的关键工具

    等离子增强化学气相沉积炉(Plasma-EnhancedChemicalVaporDeposition,PECVD)是一种先进的材料制备技术,通过等离子体与化学气相反应来形成薄膜。本文将介绍该炉的构造和其在科学研究和工业生产中的重要应用。第一段:基本构造等离子增强化学气相沉积炉利用高能量等离子体激活气体分子,使其发生化学反应,并在基底表面形成薄膜。该炉主要由气体进料系统、等离子体激发系统、高温反应区和抽真空系统等组成。在炉内,通过加热反应区并控制气体流动,使气体分子被激活并与...

  • 20239-25
    化学气相沉积炉:材料制备的得力助手

    化学气相沉积炉(ChemicalVaporDeposition,CVD)是一种重要的材料制备技术,广泛应用于半导体、薄膜、涂层和纳米材料等领域。它通过在高温下使气体反应产生物质,并在基底表面形成薄膜或涂层。这项技术的发展为各行各业带来了许多优势。首先,化学气相沉积炉具有良好的材料均匀性。通过控制反应温度、气体流速和反应时间等参数,可以实现对材料成分和结构的精确调控。这种精确性使得CVD能够生产出高质量、均匀性良好的薄膜和涂层,满足各种应用的需求。其次,CVD技术具有较高的沉积...

  • 20239-14
    PECVD系统是高效制备薄膜的关键技术

    PECVD(PlasmaEnhancedChemicalVaporDeposition)系统是一种重要的薄膜制备技术,通过利用等离子体增强化学气相沉积的方法,在常压下制备高质量、致密且均匀的薄膜。该系统在半导体、光电子、显示器件等领域得到广泛应用,具有高效、灵活、可控性强等优点。本文将介绍该系统的工作原理、特点以及在实际应用中的价值。一、工作原理:PECVD系统主要由气源系统、反应室、等离子体源、底部加热电极以及控制系统等组成。其工作原理可以简单归纳为以下几个步骤:1.准备气...

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