碳化硅单晶材料的制备及缺陷分析

碳化硅单晶材料的制备及缺陷分析以硅（Si）、砷化镓（GaAs）为代表的代和第二代半导体材料的高速发展，推动了微电子、光电子技术的迅猛发展。然而受材料性能所限，这些半导体材料制成的器件大都只能在200℃以下的环境中工作，不能满足现代电子技术对高温、高频、高压以及抗辐射器件的要求。作为第三代宽带隙半导体材料的代表，碳化硅（SiC）单晶材料具有禁带宽度大、热导率高、电子饱和迁移速率高和击穿电场高等性质。SiC器件在高温、高压、高频、大功率电子器件领域和航天、军工、核能等环境应用领域...

压力烧结炉的应用范围及正确操作说明

压力烧结炉结合了脱蜡、真空烧结和后续的热等静压致密化等工艺，用于硬质合金或工程陶瓷的处理，可在真空、反应气体和高至100巴的压力下工作。该设备的加热元件采用陶瓷纤维加热扳或陶瓷发热棒，可满足快速升温工艺要求；温控系统采用进口多段智能程序温度控制仪控制，温度控制系统的稳定性、重复性十分可靠；变频无级调速，不锈钢网带传送，全新的外观设计理念，确保了产品平稳输送。设备主要用于特种陶瓷，精密陶瓷，荧光粉，发光粉，粉末冶金，锂电池材料等无机材料的烧结。应用范围：用于特种陶瓷,精密陶瓷，...

立式真空退火炉的用途及产品特点详细说明

立式真空退火炉主要用来生产供二次真空用自耗电极和精密铸造零件，大型真空感应炉也用来生产特殊钢锭。冷坩埚熔炼又称感应壳熔炼，其特点在于避免了未用耐火材料坩埚造成的污染，因而可无污染地熔炼活泼金属及难熔金属。真空电弧重熔是一种成熟的真空重熔技术，主要用于生产钛基、镍基或钴基高温合金、钛、锆等活泼金属及钨、钼、铌、钽等难熔金属，大型炉子也用来重熔特殊钢。随着空间技术、半导体工业的迅速发展，电子束重熔亦有很大进展，熔炼范围业已从难熔金属扩展到半导体材料和一些具有特殊用途的钢种熔炼。用...

真空热压炉的系统结构大概可以分为以下六点

真空热压炉是一种以石墨为发热元件的立式真空电阻炉。它具有框架式双柱支撑。液压缸在压力源下升降，可用于金属化合物、陶瓷、无机化合物、纳米材料等，在真空或保护气氛中加热和冲压产品。广泛用于高温、高真空条件下硬质合金、功能陶瓷、粉末冶金等热压烧结。在曝气保护下也可以通过热压成型和烧结。主要应用范围：热压成型、高温烧结结合，适用于粉末冶金、功能陶瓷等新材料的高温热成型，如透明陶瓷、工业陶瓷等金属及耐火材料。合金材料、陶瓷材料、碳化硅和氮化硅组成的金属也可以用于在低于主要成分熔点的温度...

气氛炉中炉膛的清洗是用何种方式？

气氛炉采用先进技术研制开发的高性能高节能的新型电炉，有单管、双管、卧式、可开启式、立式、单温区、双温区、三温区等多种管式炉型。主要应用于大专院校、科研院所、工矿企业等实验和小批量生产之用。具有安全可靠、操作简单、控温精度高、保温效果好、温度范围大、炉膛温度均匀性高、温区多、可选配气氛、抽真空炉型等。气氛保护炉是国家标准节能型周期式作业炉，超节能结构，采用先进的复合炉衬结构，节电30%-40%适用于精密铸造行业和模壳加热，效率高，比燃油、燃煤成本大大降低。选用高品质节能型轻质泡...

真空气氛炉在行业中应用的如鱼得水

真空气氛炉也称为无氧退火炉和在一定的炉内烧结的其它物体。不同的材料选择合适的气氛烧结，有助于烧结工艺，提高产品致密化程度，获得性能优良的产品。设备常用于各种环境，如真空、氢气、氧气、氮气和惰性气体。例如，透明氧化铝陶瓷可以在氢气气氛中烧结，透明的铁电陶瓷应在氧气氛中烧结，氮化铝陶瓷等氮化陶瓷应在氮气气氛中烧结。有时需要在保护气氛中操作以保护烧结。如果钼丝炉适合氢，钨丝炉应在真空中工作。使用行业：广泛用于陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、耐火材料、新材料开发、特种材料、建材等...

真空炉及非真空热处理炉命名规范

使用硅碳棒的气氛炉温度使用范围

不同气氛对硅碳棒的影响随着需控制炉内气氛要求的增加，关于在不同气氛中使用硅碳棒的注意事项也变得越来越重要。而且，在烧成中与处理物挥发出来的各种化学物质之间的反应也同样需要注意。所以，针对特殊气氛和腐蚀性物质，我公司开发了各种防止硅碳棒快速老化的涂层。选用适当的涂层可以延长硅碳棒的寿命。无论在哪种气氛中都让表面负荷尽量小。气氛影响对策推荐涂层水蒸气和湿气比在干燥大气中的使用寿命缩短1/5新炉子试运行或者旧炉子长时间不工作再使用时，要先低温充分干燥后再升温。U涂层氢气硅碳棒温度上...