氮化硅压力烧结炉主要用于反应烧结碳化硅、氮化硅结合碳化硅的真空烧结行业。被广泛应用于军工、卫生及建筑陶瓷、航空航天、冶金、化工、机械、汽车等领域。
氮化硅压力烧结炉主要由炉体、真空机组、加热系统、加压系统、冷却系统、电器控制等部分组成。 炉体部分由炉盖、炉体、炉底组成,炉盖、炉体和炉底均为双层水冷结构,内通冷却水,保证真空炉在加热时,逃逸出来的热量不致炉壁温度过高。
真空机组由真空泵,挡板阀、放气阀以及真空测量装置组成。液压系统主要由上横梁、底座、立柱、油站、油缸、上下压头、压力传感器等组成。
加热系统由引出电极、发热体、隔热屏、连接导线等组成。加热系统由连接导线从降压变压器的输出端连接到低压电源,再经引出电极与发热体连接。隔热屏固定在炉体内,与发热体保持一定距离,对发热体与炉体之间进行隔离,用于对工作区进行保温。
特点:
1、高的温度均匀性和热效率;
2、多区独立控温 、真空分压功能;
3、采用特殊的炉胆结构和加热器布置,炉温均匀性好;
4、全密闭马弗,密封效果好,抗污染能力强;
5、多种冷凝捕集方式减少机组污染;
6、氮气吹扫系统绝缘更好,脱脂更*;
7、可具备真空烧结、压力烧结、负压脱脂烧结等功能。