G2GR20/1-气压烧结炉为周期作业式。适用于氮化硅陶瓷球，陶瓷刀具等材料在高压氮气或氩气气氛内进行烧结。有利于增加材料的烧结密度，提高材料的机械性能。

G2GR20/10-气压烧结炉是指首先在低压状态下进行烧结工艺，然后在常压下烧结材料达到疲劳状态，后是在高气压下烧结（结果是进一步的增加材料疲劳状态并迅速的消除材料中的应力），在高温高气压烧结工艺后，材料的各方面机械性能（硬度，强度，韧性等）都优于普通的烧结工艺。

H2MO13-真空氢气炉是一种采用金属钨带作为发热元件及纯金属隔热屏的全金属热场真空电阻炉。该设备具有高洁净度、污染小、高真空度等优点，主要应用于电容、钽材等金属及由难熔金属组成的合金材料、陶瓷材料等在真空或保护气氛中高温烧结。

H2MO17-真空氢气炉厂家是专门针对于材料在氢气环境或惰性气体环境进行烧结或是退火，其温度可高达1700℃。采用氧化铝纤维作为炉膛材料，以钼棒作为加热元件。对需在惰性气体或还原性气体环境下烧结的材料，是一个非常好的选择。

H2W23-真空氢气炉主要是用于半导体材料、纳米材料、光线材料、铜粉，钴粉，镍粉，钨粉，钼粉，钨粉，等在各种气体保护下的各种复杂工艺，使物料与氢气充分混合，气体保护降温，具有多种工艺气体的流量控制。是科研、教学、生产、新材料研发的重要设备，广泛适用于化工、电子、冶金、能源等行业领域。

S2D-放电等离子混合烧结系统是在两电极间施加脉冲电流和轴向压力，同时增加感应线圈加热作为辅助加热，进行粉末烧结致密化的一种新型快速烧结技术。 它具有温度均匀性好、升温速度快、烧结时间短、组织结构可控、节能环保等鲜明特点。