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PRODUCTS CNTER等离子增强化学气相沉积炉(PECVD系统)是借助于放电等离子体使含有薄膜组成的气态物质发生化学反应,从而实现薄膜材料生长的一种新的制备技术。由于PECVD技术是通过应气体放电来制备薄膜的,有效地利用了非平衡等离子体的反应特征,从根本上改变了反应体系的能量供给方式。
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型号 | HTF1200-2.5/20-2M-LV-PE | HTF1200-5/20-4M-LV-PE | HTF1200-6/40-2M-HV-PE | HTF1200-8/40-4M-HV-PE |
设计温度(℃) | 1200 | 1200 | 1200 | 1200 |
控温精度(℃) | ±1 | ±1 | ±1 | ±1 |
加热区直径(mm) | 25 | 50 | 60 | 80 |
加热区长度(mm) | 200 | 200 | 400 | 400 |
加热管长度(mm) | 450 | 450 | 1000 | 1000 |
恒温区长度(mm) | 80 | 80 | 150 | 150 |
额定电压(V) | 220 | 220 | 220 | 220 |
额定功率(KVA) | 1.2 | 1.2 | 3 | 3 |
射频电源功率(W) | 5~300 | 5~300 | 5~500 | 5~500 |
真空机组 | HTF-101 | HTF-101 | HTF-104 | HTF-104 |
供气系统 | HTF-2F | HTF-4F | HTF-2M | HTF-4M |