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NEWS INFORMATION氮化硅压力烧结炉采用高纯石墨作发热体，wre热电偶作测温元件，用精密数显程序控温仪控温，能实现炉温的自动程序升降。由二级真空机组对炉膛进行抽真空，可实现样品的真空烧结，同时也可注入保护气氛或反应气氛作气压高温烧结。它主要供企业在高气压保护气氛条件下对陶瓷（如碳化硅、氧化锆、氧化铝、氮化硅等）及金属材料等进行热等静压烧结处理，同时也适用大专院校、科研单位进行中试批量生产用。适用于氮化硅陶瓷球、陶瓷刀具等材料在高压氮气或氩气气氛内进行烧结。有利于增加材料的烧结密度，提高材料的机械...
氮化硅压力烧结炉主要用于反应烧结碳化硅、氮化硅结合碳化硅的真空烧结行业。被广泛应用于军工、卫生及建筑陶瓷、航空航天、冶金、化工、机械、汽车等领域。氮化硅压力烧结炉主要由炉体、真空机组、加热系统、加压系统、冷却系统、电器控制等部分组成。炉体部分由炉盖、炉体、炉底组成，炉盖、炉体和炉底均为双层水冷结构，内通冷却水，保证真空炉在加热时，逃逸出来的热量不致炉壁温度过高。真空机组由真空泵，挡板阀、放气阀以及真空测量装置组成。液压系统主要由上横梁、底座、立柱、油站、油缸、上下压头、压力传...
硬质合金压力烧结炉包括双层水冷腔体，水冷电极，压力系统，温度测量装置，冷却水装置，真空系统，电源和控制系统。对于抽真空系统，可以使用不同类型的泵组；根据工艺要求，可以获得的10Pa～10-5Pa。PLC控制的程序顺序可以确保工艺的全自动化和可重复性、以及稳定的产品质量。计算机操作界面和相应的数据处理系统可以满足高可靠质量控制的要求。设备原理：压力烧结是指首先在低压状态下进行烧结工艺，然后在常压下烧结材料达到疲劳状态，后是在高气压下烧结（结果是进一步的增加材料疲劳状态并迅速的消...
旋转管式炉具有安全可靠、操作简单、控温精度高、保温效果好、温度范围大、炉膛温度均匀性高、温区多、可选配气氛、抽真空炉型等。炉型结构简单，操作容易，便于控制，能连续生产。旋转管式炉构造：炉膛采用陶瓷纤维加热炉胆，加热元件置于炉膛四周，加热均匀。炉壳采用双层结构，可将外表温度降到常温并使得内腔温度分布均匀。输入接线在电炉后侧有专门安全的接线盒。电器面板上有可编程序控制仪表(30段程序)(厦门宇电)，电流表，旋钮开关，声光报警器。进料口设置在电炉后部，整体结构采用卧式。炉体旋转，变...
箱式气氛炉，是实验炉的一种，全称是箱式气氛保护实验炉，是在马弗炉的基础构造上制造出来的。箱式气氛炉应用于适合各类大专院校实验室、工矿企业化验室，供化学分析、物理测定，以及金属、陶瓷的烧结和熔解、小型钢件等加热、焙烧、烘干、热处理用。箱式气氛炉作业指导：操作规范：1、使用前需要检查箱体及附件是否齐全，接线端子是否松动。注意是否有断路或漏电现象；2、仔细阅读使用说明书及仪表操作说明书；3、待一切准备就绪就可将试样放入坩埚，然后将坩埚放入炉中，关上箱门；4、通电使用；5、在升温及保...
箱式气氛炉炉膛采用莫来石聚轻砖砌筑，炉膛内上下用碳化硅棚板，炉内温度是加热元件在加热过程中经过碳化硅棚板传导，温度更均匀。炉壳密封。为提高密封垫的使用寿命在炉门口设有循环水a冷套以降低密封处的温度。进气设炉膛底部，经加热腔预热后分多处进入炉内，排气经炉顶后部排出。保证箱式气氛炉炉内气氛均匀，减小炉内温差。气路上装有气体流量计，用于正常使用控制气氛流量。箱式气氛炉的原理是以电为热源，通过电热元件将电能转化为热能，在炉内对金属进行加热。根据多数（金属）的电阻随温度的升高而升高的物...
还原气氛炉是在马弗炉的基础设施上制造的，通常是专为陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、耐火材料、新材料开发、特种材料、建材、金属、非金属等化合物材料烧结、融化、分析、生产开发的专用实验设备。该设备可广泛应用于有色金属铜、铝合金和黑色金属。普通碳钢、硅钢、合金钢等线圈。线圈、电线等明亮退火。强对流钟罩式明亮退火炉具有生产效率高、产品质量好、能耗低、无污染、自动操作、安全可靠等优点，是当代*的先进热处理设备之一。使用说明：还原气氛炉是通过炉内的气体。由于工件在高温下会氧化，进入气...
高温气氛炉是一种适用于金属、纳米、单晶硅、多晶硅、电池扩散焊接和真空气体保护的加热设备。主要用于材料试验、合成、烧结等。炉体保温性能好，节能效果好，也可用于复合材料、粉末材料、结构陶瓷、合金真空热压烧结。高温气氛炉的电气部分采用炉体化结构，整个电气元件安装在炉体底部的一侧，结构紧凑，占用空间小。温度控制安装在炉体侧面板上，观察直观，调整方便。温度控制器具有家庭PID调节功能，可自动跟踪设置良好的PID值，可任意设置测量分度密码，具有补偿功能，可使炉温和显示值。气体通过流量计从...
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